ASML光刻机能否卖给中国?可以但EUV受限
当季卖出60台光刻机,净赚87亿元10月14日,光刻机霸主——荷兰阿斯麦(ASML)公司发布了最新财务报告,数据统计显示,第三季度ASML当季实现营收40亿欧元,净利润高达11亿欧元(约合87亿元人民币)。2020年前三季度,ASML总共实现净销售额97.24亿欧元,较去年同期77.83亿欧元提高近25%;净利润22.03亿欧元同样大幅提升51%。ASML预估四季度的收入在36到38亿欧元,毛利率
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OFweek电子工程网
2020.10.15当季卖出60台光刻机,净赚87亿元10月14日,光刻机霸主——荷兰阿斯麦(ASML)公司发布了最新财务报告,数据统计显示,第三季度ASML当季实现营收40亿欧元,净利润高达11亿欧元(约合87亿元人民币)。2020年前三季度,ASML总共实现净销售额97.24亿欧元,较去年同期77.83亿欧元提高近25%;净利润22.03亿欧元同样大幅提升51%。ASML预估四季度的收入在36到38亿欧元,毛利率
镁客网
2019.11.11中芯国际今年可能拿不到光刻机了。《日经新闻》报道称,“荷兰半导体设备供应商ASML已中止和中芯国际的合作计划,且多位ASML供应商关系人士表示,ASML此举是为了避免因供应最先进的设备给中国,而刺激到美国,只得暂时中止交货。”一时间,有关“ASML强行断供中芯国际光刻机”的言论四起。中芯国际和ASML的订单按照日经新闻报道所说,ASML中止交货的这台光刻机极有可能是中芯国际去年4月,斥资1.2亿美
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2020.06.17“工欲善其事,必先利其器”,光刻机就是芯片制造中的那一把“利器”,也被誉为半导体产业皇冠上的明珠。光刻机的主要作用是将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上,在某种程度上来说,光刻工艺的决定了半导体线路的线宽,同时也决定了芯片的性能与功耗,越高端的芯片,所需要的光刻工艺也越先进。大家都知道,芯片很重要,离开了芯片,几乎所有电子设备都会失去作用。但要是离开光刻机,自然也就制造不出芯片,同样也不可能有手机、
柏铭007
2023.08.10近日日本光刻机巨头尼康公布的业绩显示光刻机业务巨亏,原因是它的光刻机几乎没人要了,出货量同比暴跌六成,显示出日本跟随美国的脚步后,它的光刻机已几乎没有了市场。尼康公布的业绩显示二季度的光刻机出货量仅有6台,较去年同期的15台下跌了六成,这直接导致负责光刻机的精机业务亏损35亿日元,对比之下去年该业务可是盈利39亿日元。由于光刻机业务遭受重挫,直接导致尼康的净利润暴跌近八成,凸显出这家企业如今相当依
有观君
2021.10.26近日,上海微电子举行新产品发布会,该公司推出新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。据悉,上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议,首台将于年内交付。上海微电子早在2018年就申请了一项名为“一种光刻投影物镜及光刻机”的发明专利(申请号: 201811648523.1)。据悉,该专利申请人为上海微电子装备 (集团) 股份有限公司。光学光刻是一种用光将掩模图案投影复制的技术,集成电路就是由投影曝
IT168
2020.09.25近段时间有关芯片以及光刻机的话题非常热门,我们今天也来探讨一下光刻机的话题:一台能生产先进工艺芯片的光刻机后面究竟需要多少供应链去支持?制造一台光刻机需要多少个国家的公司参与其中?看看制造一台光刻机究竟有多困难。ASML上游供应商全球最顶尖的光刻机生产商ASML(阿斯麦尔)生产一台5nm光刻机或许需要十余万零部件,重量达到了180吨,单单组装就需要一年,光刻机,集人类智慧于一身的产物。不仅如此,生
IT之家
2020.02.01说到光刻机,这个一直低调隐匿在芯片产业幕后的人类伟大发明,仿佛一夜之间受到了全世界的关注。中美贸易摩擦从2018年开始不断升级,影响全球,其中技术封锁和非法断供是美国一系列施压措施的武器之一,以打击国内一批高科技企业。首当其冲就是芯片半导体产业。2018年美国制裁中兴的手段立竿见影,正是锁住了国内企业在芯片产业上无法自主的咽喉。而华为能够抵挡到现在的关键,也是因为华为本身的海思芯片业务发展得风生水
Ai芯天下
2019.09.20前言:高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造,主要以荷兰ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。从早期的认知困难到现阶段的技术比拼,光刻机的发展也是一波三折层层迭代。作者 | 方文三图片来源 | 网 络 光刻机的进化史光刻机的操作模式是主要通过光来制作一个图形工艺,将掩模版上的图形转移光刻胶上
全球财说
2024.05.28财闻网
2023.07.12前瞻网
2021.09.24中国光刻机行业主要上市公司:芯源微(688037)、华特气体(688268)等。本文核心数据:全球EUV光刻机销量、全球EUV光刻机销售额等1、EUV光刻机于近十年间兴起随着半导体技术的更新换代,光刻机也从最开始的g线(436nm)逐渐发展为近十年间兴起的EUV光刻机,从接触式向接近式,最后演变成步进式为主。EUV光刻机,又称极紫外线光刻机,是芯片生产工具,是生产大规模集成电路的核心设备,对芯片工
OFweek电子工程网
2023.03.14OFweek激光网
2024.05.30近日,俄罗斯总理米哈伊尔·米舒斯京 (Mikhail Mishustin) 将国家的技术主权纳入了一系列关键发展目标,强调要推动本土化的高科技产品、原材料及零部件,并加速该国的科学研究和技术进步。据介绍,这一新战略不仅着眼于无人机系统、医药、人工智能和空间技术等领域的突破,还着重强调了生产手段和自动化的重要性。其中,激光和光子学市场作为关键领域被特别提及。5月25日外媒报道,俄罗斯首台光刻机已经制
数智前线
2024.03.08OFweek电子工程网
2023.07.05